HAQ氨基酸凈顏修護潔面膏
品牌:HAQ
企業:廣州美姿生物科技有限公司
分類:面部磨砂膏
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
月桂酰谷氨酸鈉
SODIUM LAUROYL GLUTAMATE
頭髮調理,增泡劑,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
山梨(糖)醇
SORBITOL
皮膚調理,保濕 1
月桂酰肌氨酸鈉
SODIUM LAUROYL SARCOSINATE
皮膚調理,頭髮調理,增泡劑,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,表面活性劑 1-3
月桂酸牛磺酸鈉
SODIUM TAURINE LAURATE
清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
赤蘚醇
ERYTHRITOL
皮膚調理,保濕 1
生物糖 膠-1
BIOSACCHARIDE GUM-1
皮膚調理,保濕 1
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
苯丙氨酸
PHENYLALANINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
組氨酸
HISTIDINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
酪氨酸
TYROSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
蘇氨酸
THREONINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
鼠李糖
RHAMNOSE
皮膚調理,舒敏,保濕 1
紫蘇(PERILLA OCYMOIDES)葉提取物
PERILLA OCYMOIDES LEAF EXTRACT
皮膚調理 1
月桂酰精氨酸乙酯鹽酸鹽
ETHYL LAUROYL ARGINATE HCL
去屑,皮膚調理,控油,頭髮調理 1-2

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。