修正線雕精華面膜
品牌:修正
企業:修熙(杭州)生物科技有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
保濕 3
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
pH調節劑 致痘風險等級(低) 6
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
增稠劑 1
PEG/PPG-17/6 共聚物
PEG/PPG-17/6 COPOLYMER
溶劑 含PEG的成分 3
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
牛油果樹(BUTYROSPERMUM PARKII)果脂
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER
舒緩,抗衰,皮膚調理,保濕,潤膚劑 1
水解小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
HYDROLYZED SCLEROTIUM GUM
增稠劑,成膜劑
PEG-40 氫化蓖麻油
PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL
乳化劑 含PEG的成分 1-3
丹參(SALVIA MILTIORRHIZA)根提取物
SALVIA MILTIORRHIZA ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,健美
海藻糖
TREHALOSE
皮膚保護,保濕 1
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
環五聚二甲基硅氧烷
CYCLOPENTASILOXANE
頭髮調理,潤膚劑 硅油 3
矢車菊(CENTAUREA CYANUS)提取物
CENTAUREA CYANUS EXTRACT
收斂
法國臘菊(HELICHRYSUM STOECHAS)提取物
HELICHRYSUM STOECHAS EXTRACT
抗氧化 1
香精
PARFUM@!@AROMA
香精香料 香精香料
小白菊(CHRYSANTHEMUM PARTHENIUM)提取物
CHRYSANTHEMUM PARTHENIUM (FEVERFEW) EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
皮膚調理,氣味抑製劑 1
卵磷脂
LECITHIN
抗衰,抗氧化,保濕,潤膚劑,乳化劑 2-4
氫化卵磷脂
HYDROGENATED LECITHIN
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕,乳化劑 1-2
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
舒緩,修護,皮膚保護,抗氧化,保濕 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,保濕 1
α-熊果苷
ALPHA-ARBUTIN
舒緩,抗氧化 1
聚山梨醇酯-60
POLYSORBATE 60
乳化劑 1-3
磷酸氫二鈉
DISODIUM PHOSPHATE
pH調節劑 1
芍藥(PAEONIA ALBIFLORA)根提取物
PAEONIA ALBIFLORA ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
磷酸二氫鈉
SODIUM PHOSPHATE
pH調節劑 1
水解膠原
HYDROLYZED COLLAGEN
抗衰,皮膚調理,頭髮調理,保濕,成膜劑,抗靜電,潤膚劑 1
寡肽-1
OLIGOPEPTIDE-1
抗衰,抗氧化,保濕 1
乙酰基六肽-8
ACETYL HEXAPEPTIDE-8
抗衰,抗氧化,保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。