赫姿秀清透凈顏綠豆泥膜
品牌:赫姿秀
企業:廣州市碧瑩化妝品有限公司
分類:清潔/泥類面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
高嶺土
KAOLIN
吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,不透明劑 1
礦油
MINERAL OIL
皮膚調理,潤膚劑,賦脂劑 、礦物油 1-3
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
鯨蠟醇
CETYL ALCOHOL
增稠劑,潤膚劑 1
聚山梨醇酯-60
POLYSORBATE 60
乳化劑 1-3
山梨坦硬脂酸酯
SORBITAN STEARATE
乳化劑 1
硅酸鈉鎂鋰
LITHIUM MAGNESIUM SODIUM SILICATE
填充劑,增稠劑,黏度控制 1
PEG-100 硬脂酸酯
PEG-100 STEARATE
乳化劑 、含PEG的成分 1-3
甘油硬脂酸酯
GLYCERYL STEARATE
乳化劑 致痘風險等級(低)
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
CI 77288
CI 77288
著色劑 色素
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
聚丙烯酰胺
POLYACRYLAMIDE
增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑 2-6
C13-14 異鏈烷烴
C13-14 ISOPARAFFIN
皮膚調理,潤膚劑,溶劑 1
CI 77492
CI 77492
著色劑 色素
CI 77499
CI 77499
著色劑 色素
香精
PARFUM@!@AROMA
香精香料 香精香料
月桂醇聚醚-7
LAURETH-7
乳化劑 1-3
三乙氧基辛基硅烷
TRIETHOXYCAPRYLYLSILANE
粘合劑 1
絲氨酸
SERINE
頭髮調理,保濕,抗靜電 1
牛磺酸
TAURINE
祛痘,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理 1
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
綠豆(PHASEOLUS RADIATUS)提取物
PHASEOLUS RADIATUS EXTRACT
皮膚調理 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
抗皺,修護,舒緩,抗氧化,保濕 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
保濕 1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,抗氧化 1
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒緩,抗氧化 1
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
抗氧化,舒緩 5
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕 2-4
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
修護,抗衰,舒緩,保濕 1
乙酰化透明質酸鈉
SODIUM ACETYLATED HYALURONATE
修護,保濕 1
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物
ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT
抗衰,收斂,抗氧化 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒緩,抗氧化 2
透明質酸鈉交聯聚合物
SODIUM HYALURONATE CROSSPOLYMER
保濕 1
水解透明質酸鈉
HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE
修護,保濕 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕 2

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。